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br> Le Belge JSR Micro et le CEA-Leti ont annoncé un partenariat à venir afin de développer les matériaux et procédés de lithographie sub-20 nm ; le programme aura pour objet de pousser la lithographie optique 193 nm, pour des applications logiques, sous le nœud 20 nm par la technique de double insolation (DP) et d’adresser la lithographie à écriture directe par multi faisceaux d’électrons (ML2).

Le développement spécifique sur le ML2 entrera dans le cadre d’IMAGINE, un programme du CEA-Leti, auquel participent, entre autres les fabricants de semiconducteurs TSMC et STMicroelectronics. IMAGINE a pour objet de développer une infrastructure de lithographie sans masque à haut débit autour de l’outil développé par la société MAPPER.

JSR Micro, basé à Louvain en Belgique, est une filiale de JSR, une entreprise multinationale qui emploie plus de 5000 personnes à travers le monde pour la fourniture des matériaux sur de nombreux marchés des nouvelles technologies. Le quartier général de JSR est basé à Tokyo (Japon) et son réseau mondial possède des usines et des bureaux en Europe, aux Etats-Unis, en Chine, à Taïwan, en Corée et à Singapour.