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ISSI entre au capital de Nanya

Semiconducteurs>Etats Unis>Taïwan>Accords>Stratégie
11/09/2012 15:39:15 :
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br> Integrated Silicon Solution (ISSI), entreprise américaine fabless spécialisée dans les Srams faible consommation, les Drams de spécialité et les circuits analogiques et mixtes, vient d’investir 27 millions de dollars dans Nanya Technology, ce qui lui confère une participation de 2,4% au capital du fabricant de semiconducteurs taïwanais.

Formosa Plastics Group, maison-mère de Nanya, a fourni le solde de ce placement privé de 200 M$. En entrant au capital de Nanya, ISSI solidifie ses relations avec son fondeur privilégié pour la production de ses Drams de spécialité, ayant accès à des capacités de production réservées et aux procédés technologiques les plus avancés. De plus, Nanya mettra son expertise de production à destination d’ISSI pour le développement de ses flash NOR et ses circuits analogiques.

Nanya possède une usine 300 mm et un usine 200 mm et dispose avec Inotera Memories d’une société commune qui exploite deux unités de production sur tranches de 300 mm de diamètre à Taïwan.
ÉDITION du 11/09/2012
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