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br> Le Japonais Tokyo Electron (TEL) et le Néerlandais ASML, numéro un mondial de la lithographie, viennent de signer un accord pour accélérer le développement des prochaines générations d’équipements de lithographie dans les UV extrêmes et par immersion ArF, pour la fabrication des semiconducteurs aux géométries inférieures à 20 nm.

TEL et ASML vont ainsi installer leurs équipements de pointe respectifs l’un chez l’autre pour accélérer leurs développements et présenter des centres de démonstrations fonctionnels à leurs clients.