<

publicité

br> Le Japonais Sokudo, une société commune entre le groupe nippon Dainippon Screen et le fabricant américain d’équipements pour SC Applied Materials créée en 2006 pour développer des équipements de dépôt et de traitement de résines en lithographie, rejoint le programme de R&D Imagine pour la production de circuits intégrés par faisceaux d’électrons multiples ; ce projet de lithographie sans masques dure trois ans et est sous maîtrise d’œuvre du CEA-Léti.

La lithographie par faisceaux d’électrons pourrait être employée pour la fabrication de circuits intégrés 22 nm et moins.

STMicroelectronics et le Taïwanais TSMC participent également à ce projet de R&D.

Situé à Grenoble, le CEA-Léti (Laboratoire d’électronique et des technologies de l’information) est à la pointe de la recherche européenne sur la microélectronique, les microtechnologies et les nanotechnologies : il emploie 1200 personnes et détient plus de 1500 familles de brevets. En 2009, ses revenus contractuels couvrent plus de 75% de son budget de 227 M€.