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br> Le fabricant de mémoires coréen SK Hynix a rejoint le consortium américain Sematech pour participer à des travaux de recherche et développement concernant la lithographie dans les ultraviolets extrêmes (EUVL).

Ce projet de R&D concerne notamment le développement d’outils de lithographie critiques nécessaires à la détection des défauts dans les masques avancés pour la lithographie EUVL. Ce programme a été lancé par le consortium Sematech en 2010.