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Les usines du fondeur UMC n’ont tourné qu’à 68% au quatrième trimestre

Semiconducteurs>Monde>Taïwan>Conjoncture>Résultats financiers
08/02/2012 13:37:27 :
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br> Deuxième fondeur mondial avec un effectif de 13 000 personnes, le Taïwanais UMC publie ce matin un chiffre d’affaires trimestriel de 24,43 milliards de dollars taïwanais (825 M$), en baisse de 3% par rapport au troisième trimestre 2011 et en chute de 22% par rapport au quatrième trimestre 2010, pour un bénéfice net de 1,18 milliard de dollars taïwanais (40 M$), en chute de 39,6% en trois mois et de 81,6% sur un an.

UMC termine ainsi son exercice 2011 sur un chiffre d’affaires annuel de 105,88 milliards de dollars taïwanais (3,58 milliards de dollars), en recul de 12,1% par rapport à 2010, pour un bénéfice net en chute de 54,8%, à 10,81 milliards de dollars taïwanais (365 millions de dollars américains).

Lors du dernier trimestre, UMC a fait tourné ses usines (10 unités de production dont deux fabs 300 mm) à 68% de leur capacité (contre 74% au 3e trimestre), traitant 915 000 tranches de silicium (en équivalent 200 mm) avec un prix moyen de vente par tranche en hausse séquentielle de 5% en dollars taïwanais. Pour le premier trimestre 2012, UMC table sur une hausse marginale du nombre de tranches traitées avec une baisse des prix moyens par tranche d’environ 5%. Le taux d’utilisation des capacités de production du fondeur devrait être compris dans la fourchette haute des 60% (entre 65% et 70%).

Notons que la clientèle du fondeur concerne surtout des entreprises américaines (49% du CA en 2011) et de la zone Asie-Pacifique (39%) ; en revanche, la clientèle européenne est rare (11% du CA) et la clientèle japonaise quasi-inexistante (1%).

L’an passé, UMC a investi 1,6 milliard de dollars dans ses usines (contre 1,8 milliard en 2010) et prévoit d’investir environ 2 milliards de dollars cette année, dont 97% pour le 300 mm et 3% dans le 200 mm. Le fondeur indique par ailleurs qu’il mettra l’accent pour ses investissements sur les procédés 28 nm et 40 nm.


ÉDITION du 08/02/2012
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