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br> Mentor Graphics, groupe américain spécialisé dans la CAO électronique, rejoint le programme de R&D Imagine pour la production de circuits intégrés par faisceaux d’électrons multiples ; ce projet de lithographie sans masques dure trois ans et est sous maîtrise d’œuvre du CEA-Léti.

La lithographie par faisceaux d’électrons pourrait être employée pour la fabrication de circuits intégrés 22 nm et moins.

Mentor Graphics est la cinquième entreprise à rejoindre le projet, les autres étant STMicroelectronics, le Taïwanais TSMC, ainsi que les Japonais Sokudo et TOK.
Le projet évalue une infrastructure de lithographie sans masque et l’utilisation de l’outil de lithographie MAPPER à haut débit.

Situé à Grenoble, le CEA-Léti (Laboratoire d’électronique et des technologies de l’information) est à la pointe de la recherche européenne sur la microélectronique, les microtechnologies et les nanotechnologies : il emploie 1200 personnes et détient plus de 1500 familles de brevets.