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br> Premier chimiste français, le groupe Arkema et le CEA-Leti créent IDEAL (Insertion of DSA** lithography for CMOS*** application), une plateforme de recherche collaborative dédiée au développement et à l’industrialisation de la lithographie basée sur des polymères nano-structurés ; cette plateforme s’appuie sur les expertises en procédés et intégration de composants électroniques du CEA-Leti, et sur les compétences d’Arkema dans le développement et l’industrialisation de polymères nano-structurés.

Cette complémentarité doit permettre d’adapter matériaux et procédés pour mettre la technologie à la disposition de l’industrie du semiconducteur le plus rapidement possible.
Le CEA-Leti et Arkema, en collaboration avec le LCPO (Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques) de Bordeaux, sont déjà parvenus à démontrer le potentiel de résolution unique de la lithographie basée sur des polymères nano-structurés. Dans le cadre de leur laboratoire commun, Arkema et le CEA-Leti, en association avec les équipes du Professeur Hadziioannou du LCPO, sont parvenus à obtenir un pas de 20 nm et à diminuer le diamètre des contacts à 7 nm grâce à des polymères nano-structurés, démontrant ainsi la compatibilité de cette technologie pour les nœuds technologiques allant du 20 nm au sub 10 nm.

L’industrie du semiconducteur est confrontée depuis plusieurs années aux limites de la lithographie optique classique. La lithographie par auto-assemblage (ou nano-structuration) de polymères est une alternative technologique prometteuse du fait de ses faibles coûts de fabrication et de son intégration aisée aux procédés de fabrication actuels des puces électroniques.

Depuis le début des années 2000, Arkema développe pour diverses applications une technologie de copolymères à blocs permettant d’obtenir des matériaux nano-structurés innovants dotés d’un large éventail de propriétés, dont certaines sont particulièrement adaptées à la lithographie par auto-assemblage. Quant au CEA-Leti, il est au cœur des développements pour les technologies CMOS avancées au sein de sa ligne pilote 300 mm.