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br> Le Japonais Toshiba vient de dévoiler un planning d'extension de ses capacités de production très offensif, avec la construction, en parallèle, de deux usines : l'une d'entre elles sera construite à côté de son campus existant de Yokkaichi, où quatre usines de mémoires flash NAND sont déjà en exploitation, tandis que l'autre sera installée à Kitakami, sur le site de sa filiale Iwate Toshiba (transistors Mosfet, capteurs d'images, microcontrôleurs, etc).

La nouvelle usine de Yokkaichi sera dédiée à la production de futures générations de mémoires flash NAND et d'autres technologies mémoires avancées sur tranches de 300 mm. L'usine de Kitakami devrait, elle, permettre au groupe de répondre à la croissance future de la demande de semiconducteurs. Les deux constructions devraient démarrer au printemps 2009 et être terminées courant 2010.

Parallèlement, Toshiba a signé une lettre d'intention avec SanDisk en vue de créer une nouvelle société de production commune dans les flash NAND, qui serait installée dans la nouvelle usine de Yokkaichi. Entièrement opérée par Toshiba, cette usine produirait des mémoires pour moitié pour Toshiba et pour moitié pour l'entité commune avec son partenaire SanDisk. Toshiba envisage de négocier avec SanDisk une coopération similaire pour l'usine de Kitakami. Selon la presse japonaise, l'investissement total effectué par les deux sociétés s'élèverait à 1,9 milliard de yens (près de 12 milliards d'euros).