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br> Ce matin, NEC Electronics et Toshiba viennent d’annoncer officiellement leur collaboration pour développer en commun une technologie 32 nm pour la production de semiconducteurs ; l’accord vise à accélérer le développement et à partager les coûts de cette future technologie de production.

De plus, les deux fabricants japonais n’écartent pas la possibilité de se doter d’une société commune de production en technologie 32 nm ; ils prendront une décision définitive concernant cette éventualité courant 2008.

Toshiba et NEC Electronics ne sont pas des inconnus l’un pour l’autre, puisqu’ils ont déjà développé ensemble un procédé 45 nm à partir d’un accord signé en février 2006.
Des négociations seraient également en cours pour intégrer Fujitsu dans l’accord, rapportent diverses sources nipponnes non confirmées.

L’importance des ressources nécessaires au développement des prochaines technologies de production plaide pour des alliances. Rappelons, à ce sujet, que STMicroelectronics a annoncé cet été qu’il allait travailler avec le consortium IBM situé à East Fishkill dans l’état de New York pour le développement de procédés technologiques CMOS avancés (32 nm et moins sur tranches de 300 mm). Un consortium qui réunit déjà Chartered Semiconductor, Samsung Electronics, Infineon et Freescale.