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br> IBM et Hitachi viennent de signer un accord de coopération d'une durée de deux ans pour développer à moindre coût les futures solutions de métrologie nécessaires pour la production de semiconducteurs dans des technologies avec des motifs de 32 nm et moins.

Les travaux devraient porter sur l'analyse des structures afin d'améliorer la caractérisation des transistors ; ils seront essentiellement effectués dans les laboratoires américains d'IBM mais indépendamment de l'alliance que ce dernier a noué avec AMD, Chartered, Freescale, Infineon, Samsung, Sony, Toshiba et STMicroelectronics.