<

publicité

br> Deuxième fabricant mondial de photorépéteurs derrière ASML, le Japonais Nikon vient de conclure un accord de recherche et de développement avec le CEA-Léti dans le domaine de la lithographie optique pour technologies inférieures à 45 nm ; l’accord porte sur l’examen du potentiel de la technologie « double exposition- double motif » pour semiconducteurs 32 nm et pour lequel un équipement du fabricant japonais sera installée dans les locaux du centre de recherche Nanotec 300 du Léti.