Mercredi 28 Février @ VIPress.net

Le Léti s’associe à Nikon dans la R&D en lithographie 32 nm

Semiconducteurs>France>Japon>Accords>Recherche et développement
28/02/2007 12:03:12 :

Deuxième fabricant mondial de photorépéteurs derrière ASML, le Japonais Nikon vient de conclure un accord de recherche et de développement avec le CEA-Léti dans le domaine de la lithographie optique pour technologies inférieures à 45 nm ; l’accord porte sur l’examen du potentiel de la technologie « double exposition- double motif » pour semiconducteurs 32 nm et pour lequel un équipement du fabricant japonais sera installée dans les locaux du centre de recherche Nanotec 300 du Léti.



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