Mardi 07 Juillet @ VIPress.netTSMC rejoint le CEA-Leti dans un projet de lithographie sans masques
Premier fondeur mondial, le Taïwanais TSMC rejoint le programme de R&D Imagine pour la production de circuits intégrés par faisceaux d’électrons multiples ; ce projet de lithographie sans masques dure trois ans et est sous maîtrise d’œuvre du CEA-Léti.
La lithographie par faisceaux d’électrons pourrait être employée pour la fabrication de circuits intégrés 22 nm et moins.
Situé à Grenoble, le CEA-Léti (Laboratoire d’électronique et des technologies de l’information) est à la pointe de la recherche européenne sur la microélectronique, les microtechnologies et les nanotechnologies : il emploie 1200 personnes et détient plus de 1400 familles de brevets. En 2008, la recherche sous contrat a couvert plus de 75% de son budget de plus de 205 millions d’euros.
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